薄膜測定

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概略

基板の薄膜はエタロンとして行動します。反射を観察する時、表面上に重ね合わせの干渉
パターンを作成します。物質の屈折率と組み合わせた時、正弦波ピークの間隔は物質の
厚さを算出するために用いられます。

スペクトロメーター

USB-2000-VIS-NIR(350 〜 1,000nm) スペクトロメータは薄膜の反射計として理想的です。
グレーティング#3(350 〜 1,000nm) と25 μ m スリットを用います。OFLV-350-1000
フィルターは二次、三次光効果を取り除きます。光学分解能は1.5nm 以上です。

サンプリング

R400-7-VIS/NIR 反射プローブを薄膜面に垂直に置き、スペクトルの反射を測定します。
LS-1タングステン−ハロゲン光源とSTAN-SSH 高反射スペクトル反射標準物質を
セットアップします。

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測定

OOIBase32計測用ソフトウェアーにて薄膜基板内の光学的な干渉によって引き起される振動
が表れ、これを計測して膜厚を算出します。

構成

システムの構成
1 USB2000-VIS-NIR 小型光ファイバースペクトロメータ
グレーティング#3
25 μ m スリット
OFLV-350-1000 フィルター
2 LS-1 タングステン−ハロゲン光源
3 R400-7-VIS-NIR 反射/ 後方散乱プローブ
4 RPH-1 反射プローブホルダー
5 STAN-SSH 高反射スペクトル反射標準物質
6 OOIBase32計測用ソフトウェアー

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